Пресс-релизы

5 марта 2008 г

AMD тестирует функциональные устройства, созданные с помощью

— Первая «полномасштабная» пробная микросхема, созданная в результате сотрудничества AMD и IBM, демонстрирует возможность интеграции EUV-литографии в стандартный производственный процесс —

САН-ХОСЕ, Калифорния. — 26 февраля 2008 — Компания AMD (NYSE: AMD) совместно с IBM, своим партнером в области исследований, объявила сегодня об изготовлении «полномасштабного» пробного рабочего образца микросхемы, в которой первый слой металлических соединений создан с помощью EUV-литографии (литографии с использованием жесткого ультрафиолетового излучения). Предыдущие образцы, полученные с помощью EUV-литографии, не были «полномасштабными», поскольку при их производстве EUV-литография была задействована лишь для малой части микросхемы. Результаты совместной работы AMD, IBM и их партнеров из UAlbany NanoCollege’s Albany NanoTech Complex были представлены доктором Бруно Ла Фонтеном (Bruno La Fontaine) из AMD на первой в отрасли конференции по литографии, которая состоялась 26 февраля. Он рассказал об успешной «полномасштабной» интеграции EUV-литографии в производственный процесс пробного образца микросхемы AMD размерами 22 х 33 мм, изготовленной с помощью 45-нм технологии.

«Эта важная демонстрация потенциала EUV-литографии, которая будет использоваться в полупроводниковом производстве в грядущие годы, вдохновляет всех нас, работающих в отрасли, пользующейся преимуществами все более мелких полупроводниковых элементов», - сказал Ла Фонтен. – «Хотя предстоит еще немалая работа, прежде чем EUV-литография сможет использоваться в крупномасштабном производстве, компания AMD показала, что технология может быть успешно интегрирована в процесс производства полупроводниковых элементов для создания первого слоя металлических межсоединений по всей микросхеме».

«Совместные исследования очень важны для достижения успехов в полупроводниковой отрасли», - отметил Девид Медейроз (David Medeiros), руководитель группы партнерских исследований IBM в городе Олбани (штат Нью-Йорк). – «Наши совместные исследования в Олбанском центре позволяют нам интегральным образом оценить разнообразные аспекты EUV-инфраструктуры и послужат настоящим тестом готовности этой технологии к внедрению на производство».

Литография позволяет переносить на множество слоев кремниевой подложки высокосложные микросхемы с миллионами транзисторов. В то время как проектировщики микросхем продолжают добавлять новые функции и повышать производительность своей продукции, сокращение размеров транзисторов позволяет умещать все большее их количество в пределах заданной области. То, насколько миниатюрными могут быть транзисторы и их соединения, напрямую зависит от длины волны света, используемого для переноса схемы на подложку. В EUV-литографии используется длина волны 13,5 нм, которая значительно короче применяемой сегодня в литографии длины волны 193 нм. Это позволяет и дальше уменьшать размеры микросхем.

Сначала пробная микросхема AMD прошла обработку на фабрике AMD Fab 36 в Дрездене (Германия), где используется 193-нм иммерсионная литография, являющаяся сегодня самым передовым литографическим инструментом в крупномасштабном производстве. Затем подложка с пробной микросхемой была передана в исследовательский центр IBM, находящийся в университете College of Nanoscale Science and Engineering (CNSE) в Олбани (штат Нью-Йорк), где AMD и IBM со своими партнерами использовали сканер EUV-литографии компании ASML. С помощью этого сканера, установленного в рамках партнерской программы ASML, IBM и CNSE, был перенесен первый слой металлических соединений между транзисторами, изготовленными в Германии. После переноса, травления, осаждения и прочих технологических этапов, структура, полученная с помощью EUV-литографии, прошла электрическое тестирование в AMD. Она показала характеристики, прекрасно согласующиеся с характеристиками пробной микросхемы, изготовленной с использованием только 193-нм иммерсионной литографии. На пробные подложки будут нанесены дополнительные слои внутренних соединений с помощью стандартной фабричной обработки, что позволит также протестировать крупные массивы памяти.

Следующим шагом проверки применимости EUV-литографии в производстве станет ее использование не только для металлических межсоединений, но и для всех слоев микросхемы. Это покажет, что весь рабочий микропроцессор может быть изготовлен с помощью EUV-литографии. EUV-литография должна быть полностью проверена и допущена к производству до 2016 года, на который запланировано введение 22-нм технологического процесса в рамках проекта International Technology Roadmap for Semiconductors.

версия для печати

Еще о деятельности компаний в Украине
		AMD, представительство

SMS

Сообщите коллегам о последних новостях, пресс-релизах и сведениях из Каталога компаний через наш SMS-гейт.

Смотрите также

6 марта 2008 г

 • В компании “Фокстрот IT” произошли кадровые изменения.
 • Первые шаги BSA по борьбе с компьютерным пиратством в Украине
 • Мобильный телефон в кредит от life:) – без процентов и комиссии!
 • PrioCom подводит итоги за 2007 год.
 • «Банкомсвязь» и «Львовхолод» объявили о запуске BI-проекта
 • Выпущены улучшенные картриджи Patron для принтеров Epson серий R200/R300, С67/87, C63/65
 • Оптимальные стратегии развития цифрового вещания будут обсуждены в рамках Комплексной программы «2012:Говорит и показывает Украина»
 • Эрикссон и оператор E-Plus (Германия) заключили трехлетний договор на расширение сети мобильного широкополосного доступа
 • Компания Huawei реализует проект для Ipnet в Украине
 • Выпущены чернила под ТМ Patron