7 сентября 2000 г.
Создана технология генерации рентгеновского излучения с помощью лазеро
Специалистами JMAR Industries (San Diego, California) создан настольный источник рентгеновского излучения для фотолитографии.
Для получения излучения рентгеновского диапазона система из четырех лазеров фокусируется на медной полоске толщиной 12 микрон. Лазеры используют вторую гармонику излучения с длиной волны 532 нМ, вдвое меньшую общепринятой 1064 нМ. Возникающей энергии излучения рентгеновского диапазона достаточно для экспозиции фоторезистивного материала, применяемого в фотолитографии для создания токонесущих проводников.
Разработки подобного оборудования ведутся для применения в производстве современных полупроводниковых приборов. Переход на технологические нормы 0,13 нМ и менее потребует от поставщиков оборудования для фотолитографии применения подобных технологий уже в ближайшие годы.
Источник: РосБизнесКонсалтинг
|
